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检测样品:纺织品、化妆品、食品、农产品、绝缘工具、五金件等
报告资质:CNAS/CMA/CAL
报告周期:常规3-15个工作日,特殊样品、检测项目除外。
检测费用:根据检测项目收费,详情请咨询百检网。
半导体设备保护用熔断体检测项目:
,分断能力验证,温升和耗散功率,约定不熔断电流,约定熔断电流,过载能力验证,额定电流验证,标志,尺寸,电阻,熔断器支持件的布置,绝缘性能验证,隔离适用性验证,温升与耗散功率,约定不熔断电流与约定熔断电流验证,熔断体的额定电流验证,时间-电流特性和门限验证,过载,约定电缆过载保护,指示装置和撞击器动作,截断电流特性验证,I2t特性和过电流选择性验证,外壳防护等级验证,耐热性验证,触头不变坏验证,机械强度,耐应力腐蚀龟裂验证,耐非正常的热和火验证,耐锈性验证,耐非正常热和火,耐应力腐蚀龟裂,I2t特性和过电流选择性验证,机械强度试验,动作验证,温升与耗散功率验证,绝缘性能和隔离适用性验证,耐锈性,I2t特性和过电流选择性验证,完整试验(电阻),撞击器的动作,熔断器的尺寸,约定电缆过载试验,过载能力的验证,额定电流的验证,No.12 分断能力和动作特性,No.13 “gR”和“gS”分断能力和动作特性,No.11 分断能力和动作特性,N0.6动作特性试验,No.12a “aR”分断能力和动作特性,No.10 动作特性试验,No.1 分断能力,No.2a “aR”分断能力,N0.7动作特性试验,N0.8动作特性试验,No.2 分断能力,N0.9 动作特性试验,No.5 “gR”和“gS”分断能力,“gG”,“gM”,“gD”,和“gN”熔断体弧前I2t值和降低电压下的熔断I2t值的计算,短路功率因数的测量,截断电流-时间特性的计算,具有连接外部铜导线的无螺纹型接线端子的熔断器底座的特殊要求,截断电流特性,动作,耐热性,机械设计,额定电流,触头不变坏,熔断体的过电流选择性,温升、耗散功率,I 2t特性和过电流选择性验证,绝缘性能和隔离适用性,峰值耐受电流,防电击保护,机械选择性试验,总则,防护等级,电磁兼容性,门限,No2a “aR”分断能力,No.21 分断能力和动作特性,半导体设备保护用熔断体,时间-电流特性,约定电缆过载保护试验,指示器装置和撞击器的动作
百检检测流程:
1、电话沟通、确认需求;
2、推荐方案、确认报价;
3、邮寄样品、安排检测;
4、进度跟踪、结果反馈;
5、出具报告、售后服务;
6、如需加急、优先处理;
半导体设备保护用熔断体检测标准:
1、GB/T 13539.4-2016/IEC 60269-4(Ed 5.0):2012 低压熔断器 第4部分:半导体设备保护用熔断体的补充要求 /8.7/8.7
2、GB/T 13539.4-2016 IEC 60269-4:2012 低压熔断器 第4部分:半导体设备保护用熔断体的补充要求 8.5
3、GB/T 13539.4-2016 低压熔断器 第4部分:半导体设备保护用熔断体的补充要求 GB/T 13539.4-2016
4、GB/T 13539.4-2016 IEC 60269-4:2006 低压熔断器 第4部分:半导体设备保护用熔断体的补充要求 GB/T13539.4-2016 IEC 60269-4:2006(ed4.0) IEC 60269-4:2009(ed5.0) EN 60269-4:2009 IEC 60269-4:2012(ed5.1) IEC 60269-4 AMD 2-2016 EN 60269-4-2012 EN 60269-4:2009+A2:2016
5、GB/T 13539.4-2016 IEC 60269-4:2012 低压熔断器 第4部分:半导体设备保护用熔断体的补充要求
6、GB/T 13539.4-2016 低压熔断器 第4部分:半导体设备保护用熔断体的补充要求
7、GB/T13539.4-2016IEC60269-4:2006(ed4.0)IEC60269-4:2009(ed5.0)EN60269-4:2009IEC60269-4:2012(ed5.1)IEC60269-4AMD2:2016EN60269-4:2012 低压熔断器 第4部分:半导体设备保护用熔断体的补充要求
8、GB/T 13539.1-2015IEC 60269-1, 4.0)IEC 60269-1, 4.1)IEC 60269-1, 2014EN 60269-1-2014, GB/T13539.4-2016IEC 60269-4, 4.0)IEC 60269-4, 5.0)EN 60269-4, 2009IEC 60269-4, 5.1)IEC 60269-4 AMD 2-2016EN 60269-4-2012 低压熔断器第1部分:基本要求GB/T 13539.1-2015IEC 60269-1:2006(ed4.0)IEC 60269-1:2009(ed4.1)IEC 60269-1:2014EN 60269-1-2014低压熔断器 第4部分:半导体设备保护用熔断体的补充要求GB/T13539.4-2016IEC 60269-4:2006(ed4.0)IEC 60269-4:2009(ed5.0)EN 60269-4:2009IEC 60269-4:2012(ed5.1)IEC 60269-4 AMD 2-2016EN 60269-4-2012
9、GB/T13539.4-2016 IEC 60269-4:2006(ed4.0) IEC 60269-4:2009(ed5.0) EN 60269-4:2009 IEC 60269-4:2012(ed5.1) IEC 60269-4 AMD 2-2016 EN 60269-4-2012 低压熔断器 第4部分:半导体设备保护用熔断体的补充要求
10、GB/T13539.1-2015IEC60269-1:2006(ed4.0)IEC60269-1:2009(ed4.1)IEC60269-1:2014EN60269-1-2014 低压熔断器 第1部分:基本要求低。压熔断器 第4部分:半导体设备保护用熔断体的补充要求
11、GB/T 13539.4-2016 IEC 60269-4:2012 低压熔断器 第4部分:半导体设备保护用熔断体的补充要求 GB/T 13539.4-2016 IEC 60269-4:2012
12、GB/T 13539.4-2016/IEC 60269-4 低压熔断器 第4部分:半导体设备保护用熔断体的补充要求 GB/T 13539.4-2016/IEC 60269-4(Ed 5.0):2012
13、GB/T13539.4-2016IEC60269-4:2012 低压熔断器 第4部分:半导体设备保护用熔断体的补充要求
14、GB/T 13539.4-2016IEC 60269-4:2012 低压熔断器 第4部分: 半导体设备保护用熔断体的补充要求
15、GB/T13539.4-2016IEC60269-4:2006EN60269-4:2009EN60269-4:2012IEC60269-4:2012(ed5.1)IEC60269-4:2009/AMD2:2016 低压熔断器 第4部分:半导体设备保护用熔断体的补充要求
16、GB/T13539.1-2015IEC60269-1:2006(ed4.0)IEC60269-1:2009(ed4.1)IEC60269-1:2014EN60269-1:2014 低压熔断器 第1部分:基本要求低。压熔断器 第4部分:半导体设备保护用熔断体的补充要求
17、IEC 60269-4:2012 低压熔断器 第4部分:半导体设备保护用熔断体的补充要求
18、GB/T 13539.4-2016 IEC 60269-4:2009+A1:2012+A2:2016 低压熔断器 第4部分:半导体设备保护用熔断体的补充要求 GB/T 13539.4-2016 IEC 60269-4:2009+A1:2012+A2:2016
19、GB/T 13539.4-2016 IEC 60269-4:2012 低压熔断器 第4部分:半导体设备保护用熔断体的补充要求
一份检测报告有什么用?
产品检测报告主要反映了产品各项指标是否达到标准中的合格要求,能够为企业产品研发、投标、电商平台上架、商超入驻、学校科研提供客观的参考。
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